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多晶矽還（hái）原（yuán）爐體（tǐ）及（jí）鍾罩幹式清掃裝置
多晶（jīng）矽還原爐體及鍾罩幹式（shì）清掃裝（zhuāng）置（zhì）使用（yòng）時利用上下移動和旋轉機構帶動高壓氣體噴吹以及特殊旋轉刷組合機構近（jìn）距離（lí）對（duì）反應（yīng）釜表麵進行噴吹和接觸式清掃達（dá）到清洗的目的。通過清洗旋轉調（diào）速機構可滿足各工況的要求。清洗的同時采（cǎi）用特殊（shū）除塵（chén）淨（jìng）化器一次性進行除塵淨化。
多晶（jīng）矽還原爐體（tǐ）及（jí）鍾罩幹式清掃裝置 The dry clean system for Bell jar and the reactor base
■適用範圍
矽（guī）烷法多晶矽生產工藝。
用於還原車間反應釜中矽汙染物附著力不大的工況條件下無汙染幹式清洗。
■工（gōng）作原理
清洗時利用上下（xià）移動和旋轉機構帶動（dòng）高壓氣體噴吹以及特殊旋轉刷組（zǔ）合機構（gòu）近距離對反應釜表麵進行（háng）噴吹和接觸式清掃達到清洗的目的。通過清洗旋轉調速機構可滿（mǎn）足各工（gōng）況的要求（qiú）。清洗的同時采用特（tè）殊除塵淨化器一（yī）次性進行（háng）除（chú）塵淨化。
■工藝流程
反應釜吊裝至清洗台上—定位—連接、啟動淨化器—啟動旋轉、上下移動機構—高壓氣體沿壁噴吹—旋轉刷至上而下接觸移動清掃—淨化（huà）氣體置換（huàn）—反應釜吊起—檢查。
■設備組成及配置（zhì）
主要由清洗平台、氣體（tǐ）噴吹裝（zhuāng）置、吸塵輸送管道、控（kòng）製閥門、動力（lì）機構、清洗機構、各管道快速接（jiē）頭、除塵淨化器、電氣控製係統（tǒng）等組成。
主要部件采用進（jìn）口零部件，確保運行可靠穩定、使用周期（qī）長。操作（zuò）維修簡單。
■設備特點（diǎn）
1)裝置為（wéi）移動單元式結構。
2)淨化後的空氣可達到10萬級的淨化精度可完全在室內排放。
3)采（cǎi）用全封閉幹式（shì）的清洗方式確保對環境不（bú）出現二次汙（wū）染。
4)電氣設計（jì）按隔爆的各項要求執行、 設備設有靜電（diàn）導出裝置。
5)控（kòng）製方式可為全自動或手動控製。
6)運行總功（gōng）率小，噪聲低。
