自動化多晶矽還原爐清洗係統為光伏行業實現“雙碳目標”助力
時間：2022-07-11 15:55:00作者：LeeZhou來源：www.91潔清潔設備
在“雙碳目標”的背景下，光伏成為可再生能源實現雙碳目標的主要助力，多晶矽料位於光伏產業鏈的最上遊，行（háng）業壁壘較高，且具備周期性兼資源屬性，當前全球矽料供需緊平衡，多晶矽料國產替代效應顯著，進一步掌握全球供給話語權。隨著國內多晶矽價格（gé）不斷上升，產能持續擴張，通威股份、保利協鑫、新疆大全等一（yī）線多晶矽（guī）企（qǐ）業也（yě）開啟了（le）擴產之路，若現有擴產計劃全部如期達產，2022年我國多（duō）晶矽產能有望達到95萬噸（dūn），較2020年增長126%。
改（gǎi）良西（xī）門子法是目前生產多晶矽最（zuì）為成熟、可靠、投產速度最（zuì）快的工藝（yì），因其具（jù）有節能降耗顯著（zhe）、成本低、質量好、采用綜合利用技術，對環境不產生汙染（rǎn）等優勢，被國內外多晶矽生產企業廣泛采（cǎi）用（yòng）。根據中國光伏行業協會的數據顯示：2019年全球多晶矽產量中采用改良西門子法生產多晶矽（guī）占比高達97.8%；這一現象在我國也不例外，2020年國內采用改良西門子法生產多晶矽約占全國總產（chǎn）量（liàng）的97.2%。
多晶矽還原爐作為改良（liáng）西門子法生產的核心（xīn）設備，也是決定其產能、能耗、環保指標以（yǐ）及可（kě）靠性、安（ān）全性的關鍵因素。多晶矽的生產過程中，對還原爐的沉積環境的潔淨度要求特別高，多晶矽還原爐內表麵要求潔淨、光滑，甚至達到呈鏡麵要求。任何顆粒（lì）性（xìng）雜質、油脂等物質餘留在爐內，都會對產品質（zhì）量造（zào）成影響。還原爐鍾罩汙（wū）染物易造成內表（biǎo）麵熱量（liàng）反（fǎn）射減少，熱場分布不均勻，生產能耗增加，矽芯擊不穿或產品（pǐn）質量汙染，從而引起多晶矽生產成本的上升，生產效率的下降，因此對還（hái）原爐內（nèi）的（de）清洗十分必要。
針對還原爐的清洗，其中清洗和烘幹是不可缺少的環（huán）節，過去以人（rén）工清洗為（wéi）主，不安全，不（bú）環保，清洗的一致性也難以保證，清洗效果差，自動化程（chéng）度低（dī），效率不高。隨著科技的發展，還（hái）原爐（lú）清洗方式也逐漸從人工（gōng）清洗向機械化清洗發展，然而現有清洗技術多存在多晶矽（guī）還原爐清洗烘幹不安全，不（bú）環保，不具有一（yī）致性和均勻性，清洗效果差，自動化程度低，效率不高（gāo）的缺陷。
為解決現有技術存在的諸多（duō）問題，www.91（gāo）潔自主研發並投入使用了一款自動化高壓水多（duō）晶矽還原爐鍾罩清（qīng）洗（xǐ）係統，係統充（chōng）分發揮高（gāo）壓水的技術優勢（shì），結合全麵電子化自動操作，用PLC+觸（chù）摸屏柔性自動控製係統，實現對還原爐鍾罩的自動清洗和烘幹。係統管理操作簡（jiǎn）單、自動化程度強、能顯著提高還原爐清洗效率、降低（dī）設備損耗。確保還原爐鍾罩達（dá）到“無油、無水、無塵”標準化生產環境（jìng），為多晶矽生產純度、質量提升助力。
其工作原理是以高壓水射流為動（dòng）力自驅動三維（wéi）自動旋轉噴頭，形成360°的（de）網狀噴射表麵，完成鍾罩內部表麵（miàn）的（de）水力（lì）掃射，用專用清（qīng）洗劑等為主要清洗液，用純水(去（qù）離子水或叫脫鹽（yán）水)漂洗，用高純水衝洗，完（wán）成清洗過程。其後用經過三級淨（jìng）化(10萬級)的純淨空氣，梯級加熱，保證烘（hōng）幹完的鍾罩不（bú）再結露，可直接進入生（shēng）產作業。全（quán）密（mì）閉式清洗烘幹係統，使（shǐ）汙染物（wù）(廢氣、廢水等)在受控的條件下，按設計出口排放，基本消除（chú）了對現場及操作人員的汙（wū）染。
www.91潔高壓水多晶矽還（hái）原爐鍾罩自動（dòng）清（qīng）洗係統，一套係統可以實現多種型號鍾罩的自（zì）動清洗烘幹，清洗烘幹時間、溫（wēn）度、清洗、漂洗液的選擇工藝參數可以根據需要自（zì）行調（diào）整設定，同時具有半自（zì）動或手動功能。節省（shěng）了人（rén）力物力，大大降低勞動強度。一（yī）次吊裝在一個工作台上完成全（quán）部（bù）清洗、烘（hōng）幹過程。根據客（kè）戶需（xū）求，還可根（gēn）據使用方不同鍾罩、車間廠房的情（qíng）況，能源條件不（bú）同，提供個性化設計。
隨著科學技術的不斷發展（zhǎn），多晶矽生產工藝也是多樣化，除多晶（jīng）矽主流製備工藝改良西門子法以外，其中矽烷硫化床法頗受關注，矽烷硫化床工（gōng）藝所產出顆粒（lì）矽雖然相（xiàng）比棒狀矽有諸多優勢，但技術壁（bì）壘較（jiào）高，目前國內僅有保利協鑫掌握矽烷流化床工藝，預計未來仍以改良西門子法為主。故而，在以改良西門子法為多晶矽生（shēng）產主（zhǔ）流工藝的當下（xià），為確保（bǎo）對晶矽的產品質量、生產安全、生產效率不受影響，多（duō）晶矽還原爐的清洗作業不容忽（hū）視。
改（gǎi）良西（xī）門子法是目前生產多晶矽最（zuì）為成熟、可靠、投產速度最（zuì）快的工藝（yì），因其具（jù）有節能降耗顯著（zhe）、成本低、質量好、采用綜合利用技術，對環境不產生汙染（rǎn）等優勢，被國內外多晶矽生產企業廣泛采（cǎi）用（yòng）。根據中國光伏行業協會的數據顯示：2019年全球多晶矽產量中采用改良西門子法生產多晶矽（guī）占比高達97.8%；這一現象在我國也不例外，2020年國內采用改良西門子法生產多晶矽約占全國總產（chǎn）量（liàng）的97.2%。
多晶矽還原爐作為改良（liáng）西門子法生產的核心（xīn）設備，也是決定其產能、能耗、環保指標以（yǐ）及可（kě）靠性、安（ān）全性的關鍵因素。多晶矽的生產過程中，對還原爐的沉積環境的潔淨度要求特別高，多晶矽還原爐內表麵要求潔淨、光滑，甚至達到呈鏡麵要求。任何顆粒（lì）性（xìng）雜質、油脂等物質餘留在爐內，都會對產品質（zhì）量造（zào）成影響。還原爐鍾罩汙（wū）染物易造成內表（biǎo）麵熱量（liàng）反（fǎn）射減少，熱場分布不均勻，生產能耗增加，矽芯擊不穿或產品（pǐn）質量汙染，從而引起多晶矽生產成本的上升，生產效率的下降，因此對還（hái）原爐內（nèi）的（de）清洗十分必要。
針對還原爐的清洗，其中清洗和烘幹是不可缺少的環（huán）節，過去以人（rén）工清洗為（wéi）主，不安全，不（bú）環保，清洗的一致性也難以保證，清洗效果差，自動化程（chéng）度低（dī），效率不高。隨著科技的發展，還（hái）原爐（lú）清洗方式也逐漸從人工（gōng）清洗向機械化清洗發展，然而現有清洗技術多存在多晶矽（guī）還原爐清洗烘幹不安全，不（bú）環保，不具有一（yī）致性和均勻性，清洗效果差，自動化程度低，效率不高（gāo）的缺陷。
為解決現有技術存在的諸多（duō）問題，www.91（gāo）潔自主研發並投入使用了一款自動化高壓水多（duō）晶矽還原爐鍾罩清（qīng）洗（xǐ）係統，係統充（chōng）分發揮高（gāo）壓水的技術優勢（shì），結合全麵電子化自動操作，用PLC+觸（chù）摸屏柔性自動控製係統，實現對還原爐鍾罩的自動清洗和烘幹。係統管理操作簡（jiǎn）單、自動化程度強、能顯著提高還原爐清洗效率、降低（dī）設備損耗。確保還原爐鍾罩達（dá）到“無油、無水、無塵”標準化生產環境（jìng），為多晶矽生產純度、質量提升助力。
其工作原理是以高壓水射流為動（dòng）力自驅動三維（wéi）自動旋轉噴頭，形成360°的（de）網狀噴射表麵，完成鍾罩內部表麵（miàn）的（de）水力（lì）掃射，用專用清（qīng）洗劑等為主要清洗液，用純水(去（qù）離子水或叫脫鹽（yán）水)漂洗，用高純水衝洗，完（wán）成清洗過程。其後用經過三級淨（jìng）化(10萬級)的純淨空氣，梯級加熱，保證烘（hōng）幹完的鍾罩不（bú）再結露，可直接進入生（shēng）產作業。全（quán）密（mì）閉式清洗烘幹係統，使（shǐ）汙染物（wù）(廢氣、廢水等)在受控的條件下，按設計出口排放，基本消除（chú）了對現場及操作人員的汙（wū）染。
www.91潔高壓水多晶矽還（hái）原爐鍾罩自動（dòng）清（qīng）洗係統，一套係統可以實現多種型號鍾罩的自（zì）動清洗烘幹，清洗烘幹時間、溫（wēn）度、清洗、漂洗液的選擇工藝參數可以根據需要自（zì）行調（diào）整設定，同時具有半自（zì）動或手動功能。節省（shěng）了人（rén）力物力，大大降低勞動強度。一（yī）次吊裝在一個工作台上完成全（quán）部（bù）清洗、烘（hōng）幹過程。根據客（kè）戶需（xū）求，還可根（gēn）據使用方不同鍾罩、車間廠房的情（qíng）況，能源條件不（bú）同，提供個性化設計。
隨著科學技術的不斷發展（zhǎn），多晶矽生產工藝也是多樣化，除多晶（jīng）矽主流製備工藝改良西門子法以外，其中矽烷硫化床法頗受關注，矽烷硫化床工（gōng）藝所產出顆粒（lì）矽雖然相（xiàng）比棒狀矽有諸多優勢，但技術壁（bì）壘較（jiào）高，目前國內僅有保利協鑫掌握矽烷流化床工藝，預計未來仍以改良西門子法為主。故而，在以改良西門子法為多晶矽生（shēng）產主（zhǔ）流工藝的當下（xià），為確保（bǎo）對晶矽的產品質量、生產安全、生產效率不受影響，多（duō）晶矽還原爐的清洗作業不容忽（hū）視。
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