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首頁 > 技術文章

多晶矽生產設備（bèi）清洗的意義

時間：2018-05-28     來源： 北京www.91潔清潔設（shè）備有（yǒu）限公司

多晶矽按不同的用途可分為太陽能級多晶矽（guī）和電子級多晶矽兩（liǎng）類。太陽能級多晶矽（guī）的純（chún）度（dù）一般在5～7N，主要（yào）雜質為Fe、Cr、Ni、Cu、Zn 等，金屬雜質總含量≤0.2(太陽能（néng）三級品要求)。電子級多晶矽一般（bān）含Si＞99.9999%以上，超高純（chún）達到99.9999999%～99.999999999%，即9～11N，其導（dǎo）電（diàn）性為10- 4～1010Ω·cm，碳濃度＜2×1016at·cm- 3。
 
油脂、水分、氯離子（zǐ）殘留、金屬（shǔ）氧化物、氯化物、灰塵及其（qí）他雜質，對（duì）多晶（jīng）矽的純度影響極大。在多晶矽設備（bèi）製造、安裝和多（duō）晶矽生產（chǎn）過程中清（qīng）洗是十分重要的部分，要（yào）按多晶矽生產工藝，對不同潔淨（jìng）度要求、不同材質的設備采用不同的清洗方法（fǎ）。'
 
多晶矽
 
多晶矽設備的清洗的不同階段：
 
1、設備製造（zào）階段的清洗
 
金屬設備及管道、零（líng）件需要在除漆前將表麵的氧化皮和鐵鏽除掉（diào），設備內（nèi）部的油脂、軋製鱗片、鏽皮等也需要進行清（qīng）洗。
 
2、多晶矽設（shè）備安裝階段的清潔
 
由於工（gōng）藝管道輸送的介質特性及產（chǎn）品（pǐn）純度要求（qiú），對管道的焊接（jiē）質量及內部清潔、吹掃試壓均有較高要求，對設備進場（chǎng）驗收、檢驗及安裝、內部（bù）處理也有較高要求，因此設備製造（zào）結束後（hòu）的清洗處理至（zhì）關重要（yào）。在（zài）裝置進行試（shì）生產前期，係統注入四氯化矽進行循環清洗（xǐ）約2～3個月，時間的長短取決於（yú）設備前期清洗情況。
 
3、多晶矽設備生產期間的清洗
 
還原爐（lú）和氫化爐是改良西門（mén）子法生產多晶（jīng）矽的核（hé）心設備，其運行好壞直接影響多晶矽質量及生產成本。多（duō）晶矽生產對還原（yuán）爐的沉（chén）積（jī）環境的潔淨度要求特別關鍵，任何顆粒性雜質、油脂等物質（zhì）餘留在爐內，都會對產品質量（liàng）造成影響。北京www.91潔清潔設備有限公司經過研發（fā）設計並製（zhì）造（zào）出了多晶矽自動化還原（yuán）爐鍾罩清洗係統，可以（yǐ）完全將（jiāng）多晶矽還原爐鍾罩清洗幹淨，滿足生產需（xū）求（qiú）。
 
www.91潔電子級多（duō）晶矽還（hái）原（yuán）爐鍾罩清洗係統包括低壓熱水清洗動力裝置、三維洗（xǐ）罐器（qì）、旋轉和升降執行機構、清洗工作台、萬級淨（jìng）化幹燥係統、循（xún）環過濾係統、控製裝置、微負壓係統、清洗工作台、電氣控製係統等，係統實現了鍾罩的全自動清洗和（hé）烘幹操作。
 
www.91潔多晶（jīng）矽還（hái）原爐鍾（zhōng）罩清洗係統
 
電子級多晶矽還原爐鍾罩自動清洗係統特點：以水力自驅動三維洗罐器為（wéi）噴頭，形成360° 3D形（xíng）式的（de）網狀噴射來完成爐筒內部表麵的水力掃射。配以旋轉和升降的清洗吹幹執（zhí）行機構，準確定位（wèi）。操作簡（jiǎn）單方便，係統控製，清洗、吹幹自行調整（zhěng）。不僅可以滿（mǎn）足（zú）對內壁和視孔鏡的清洗，同時也滿足了（le）底部法蘭的清洗。
 
在整個還原爐的清（qīng）洗過程中，清洗、幹燥中筒內形成微負壓狀態，防（fáng）止清洗外（wài）溢，同時（shí）將（jiāng）底座與筒體下法蘭處的汙染物等一並吹掃，通過排汙管排出，從而保證了整個過程不會對潔淨區造成（chéng）汙染。
 
生產多晶矽的工藝複（fù）雜（zá），設備清洗是可以降低能耗保證多晶矽產品質量的。多晶矽（guī）生產企業對設備須從選型、選材、清洗等方麵進行合理、科學的管理，應用現代技術，進行全程清洗（xǐ），以充分發揮設備功（gōng）效，為安全、高（gāo）效生產創造條件。
  • 標簽：
  • 多晶矽
  • 還原爐
  • 氫化爐
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