電子級多晶矽還原爐鍾罩自動清洗係統成功問（wèn）世

多晶矽是用工業矽通過化學、物（wù）理途徑提（tí）純製得（dé），多（duō）晶矽主要用於生產單晶矽和衛星太陽能電池。單晶矽即矽半導體是多晶矽（guī）的衍生產品，是製造繼（jì）承電路和電子元件的（de）優質材（cái）料，被廣泛應用於電（diàn）子工業中。

還原爐沉積多晶矽是間（jiān）歇操作，一個運行周期內，矽棒不（bú）斷長大，一（yī）個（gè）運（yùn）行周期結束後打開（kāi）鍾罩收割矽棒。但在運行期內，基盤及鍾罩表麵均（jun1）會產生一層土黃色粉末，其主要成分是無定形（xíng）矽。在（zài）收割矽（guī）棒後，需要進行基盤和鍾罩的清理，再裝矽芯進（jìn）行下一（yī）個周期的（de）化學氣相沉積。
 
還原爐鍾罩汙染物易造成內（nèi）表麵熱量反射減少，使生產能耗增加；電極（jí）周圍汙染物降低了點擊的絕緣（yuán）而導致運行過程中（zhōng）接地故障、倒棒等生產事故。而用於電子行業的（de）多晶矽對產品質量純（chún）淨度（dù）的控製要求（qiú）更高，

隨著我國半導體工業發展，對多晶矽純度要（yào）求越來越高，還原爐沉積環境的潔淨度就顯得特別關鍵，任何顆粒性雜質、油（yóu）脂等物（wù）質餘留在爐內，都（dōu）會對產品質量造成影（yǐng）響。那麽，如何清理能方便快捷，同時效果更佳？

多晶矽（guī）還原爐清洗係統始於（yú）2009年，國內第一家研發設計（jì）製造（zào）並獲（huò）得實用（yòng）新型（xíng）專利是北京www.91潔清潔設備有限公司，該公司多晶矽還原爐鍾罩清洗係統覆蓋了（le）國內多家多晶矽生產企業。早期有高壓清（qīng）洗、化學溶劑低壓清洗、機械拋光（guāng）等（děng），但大多釆用堿（jiǎn）液中壓（yā）清洗，這些清洗方式不僅不能（néng）將鍾罩清洗幹淨（jìng），還會（huì）損傷（shāng）表麵鍍（dù）銀的還原爐鍾罩，為攻（gōng）克（kè）這一難題，一款全新的用於（yú）電子級的多（duō）晶矽還原爐鍾罩清洗係統應運而生。

電子級多晶矽還原爐鍾罩自動清洗係統（tǒng）特點：

1、多晶矽還原爐鍾罩清洗係統以水為動力（lì），以水力自驅動三維洗罐器為噴頭，形成360° 3D形式的網狀噴射來（lái）完成爐筒內（nèi）部表（biǎo）麵的水力掃射。

2、采用可以旋轉和升降的清洗吹（chuī）幹（gàn）執行機構，根（gēn）據還原爐每（měi）個（gè）視孔鏡相對原點的相對位置進（jìn）行準（zhǔn）確定位。可自動切換不同清洗液及吹幹，通過（guò）控製係統可對清洗、吹幹時間等進行調（diào）整。清洗時隻需一鍵操作即可，操作簡單方便。

3、根據還原爐底部法蘭的結構特設（shè）計升級後的清洗工作台，不僅（jǐn）可（kě）以滿足對內壁和視孔鏡的清洗，同時也滿足了底（dǐ）部法蘭的清洗。可實現對法蘭內邊緣的清洗，保證整個法蘭底部都被清（qīng）洗液（yè）覆蓋，並清洗、吹幹。

4、在整個還原爐的（de）清洗過程中，清洗、幹燥中（zhōng）筒內（nèi）形成（chéng）微負壓狀態，防止清（qīng）洗外溢，同時將底座（zuò）與筒體下法蘭（lán）處的汙（wū）染物等一並吹掃，通過排汙管（guǎn）排出，從而保證（zhèng）了整個過程不會對潔淨區造成汙染。
 
經過實際應用，多（duō）晶矽還原爐清洗（xǐ）係統整套係統可實現全（quán）自動化清洗操作，在（zài）一個工作平台上，一次吊裝可（kě）依次實（shí）現（xiàn）自動清洗烘幹全部（bù）功能，完全實現無死角清洗，同時具有完善的聯鎖和保護（hù）功能。