多晶矽還原（yuán）爐內主要汙染物及（jí）清洗工藝

從（cóng）2010年至今，光伏產業呈現出了強勢的複蘇態勢，光伏市（shì）場需求旺盛。高純多（duō）晶矽是電子工（gōng）業和太陽能光伏產（chǎn）業（yè）的基礎原料也是主要原料，在整個生產過程中，對產品質量（liàng）的（de）控製要求很高。目前，生產多晶矽（guī）主要采用改良西門子法，對還原爐（lú）的沉積環境（jìng）的潔淨度要求特別關鍵，任何顆粒性雜（zá）質、油脂等物質餘（yú）留在爐內，都（dōu）會對產（chǎn）品質量造成影響。
 
一、多晶矽還原爐內主要汙（wū）染物

根據多晶矽（guī）生產原理及實際生產情況分析，還（hái）原爐基盤及鍾罩表麵主要汙染物為無定形矽粉，其次為多晶矽顆粒物、氯矽烷（wán）水解物及部分粉塵雜質。

1、無（wú）定（dìng）形矽

還原爐在一個周期（qī）運行後，基盤及鍾罩表麵均會產生一層土黃色粉末，主要成分為無（wú）定形矽粉。基盤冷卻水溫度偏高，在還原爐基盤尾氣出口也會產生無定形矽。這些無定形矽（guī）易形成一層（céng）膜附在基盤和鍾罩內表（biǎo）麵，甚至在電極（jí）和石英環表麵（miàn）。

2、氯矽（guī）烷水解物

多晶矽打開鍾罩前要進行嚴格的氮氣置換，但因還原爐結構複（fù）雜（zá），在進料口、尾氣管、窺視鏡等（děng）地方易形成置換死角，置換後爐內仍會預留部分氯矽烷氣體。當爐（lú）筒提起後，氯矽烷殘留氣體與空氣接觸，會在基盤及爐筒表麵形（xíng）成水解物。這些水解物一般附著在進料管口（kǒu）及尾氣管口，其中矽酸（suān）鹽物質（zhì）為白色膠狀沉澱，二氧化矽為白色粉末狀固體，氯化氫遇潮形成鹽酸殘留在基盤表麵。

3、多晶矽顆粒物

還原爐停爐過（guò）程中，因停爐（lú）溫度控製不均，易造成矽棒破裂，產生多晶矽碎屑（xiè）；收割矽棒過程中也會有部分碎屑遺留；如果遇到倒棒，碎屑遺留會更（gèng）多。

4、其（qí）他雜物

在收割矽（guī）棒（bàng）中，會帶入少量的粉（fěn）塵、油脂等（děng）汙染物。油分子對多晶矽的危害十（shí）分嚴（yán）重可能造成多晶矽反應速（sù）度（dù）減慢，產量降低，甚至矽反應停（tíng）止。

二、多晶矽還原爐清（qīng）洗方法（fǎ）
 
現（xiàn）今各生產廠家在開發新技術、進行技術改造的同時（shí），通過對設備的清洗來降低能耗和保證多晶矽的產品質量。還（hái）原爐沉積多晶矽是間歇操作，一個運（yùn）行周期結束後需（xū）要打開鍾罩收割矽（guī）棒，然後進行基盤清理，再裝矽芯進行下一個周期的（de）化（huà）學氣（qì）相沉積。因此，想提（tí）高設備（bèi）運轉率、降低能耗，選擇方（fāng）便、快捷、處理效（xiào）果好的清理工藝尤為關鍵。

www.91潔多晶矽（guī）還原爐鍾罩清洗係統是以高壓清洗機為主（zhǔ）機，以高（gāo）壓水射流（liú）為動力的自驅動三（sān）維旋轉噴頭形成360°的網狀（zhuàng）高壓水（shuǐ）柱（zhù）噴射（shè）表麵，從而完成鍾罩內部表（biǎo）麵的水（shuǐ）力掃射，並采用專用（yòng）清（qīng）洗劑等為主要清洗液，先用純（chún）水（去離子水或叫（jiào）脫鹽水）漂洗，之後再采用高純水衝洗，最終完成清（qīng）洗（xǐ）過程。

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