電子級多晶矽還原爐鍾罩自動清洗係（xì）統成功問世（shì）

多（duō）晶矽是用工業矽通過化學（xué）、物理（lǐ）途徑提純製得，多晶矽主要用於生產（chǎn）單晶矽和衛星太陽能電池。單晶矽即矽半導（dǎo）體（tǐ）是（shì）多晶（jīng）矽的衍生（shēng）產（chǎn）品，是製造繼承電路和電子元件的（de）優質材料，被廣泛應用於電子工業中。

還原爐沉積多（duō）晶矽是間歇操作（zuò），一個運行周期內，矽棒不（bú）斷長大，一個運行周期結束後打開鍾罩收割矽棒。但在運（yùn）行（háng）期內，基盤及鍾罩表麵均會產生一層土黃色粉末，其主要（yào）成分是無定形矽。在收割矽棒後，需要進行基盤和鍾罩的清理，再裝矽（guī）芯進行（háng）下一個周期的化學氣相沉積。
 
還原爐鍾罩汙染物易（yì）造成內表麵（miàn）熱量反射減少，使生產能耗增加；電極周（zhōu）圍汙染物降低了（le）點擊的絕緣而導致運行過程中接地故障、倒棒等生產事故。而用於電子行業的多晶矽對產品質量純淨度的控（kòng）製（zhì）要（yào）求更高，

隨著我國半導體工業發展（zhǎn），對多晶矽純度要求（qiú）越來越高，還原爐沉積環境的潔淨度就顯得特別（bié）關鍵（jiàn），任何顆粒性雜質、油脂等物質餘留在爐內，都會（huì）對產品質量造成影響。那麽，如（rú）何清理能方便快捷，同時效果更佳？

多晶矽還原爐清洗係統始於（yú）2009年，國內第一家研發設計製造並（bìng）獲得實用新型專利是北京（jīng）www.91潔清潔設備有限公司，該公司多晶矽還原爐鍾罩清洗係統（tǒng）覆蓋了國內多家多晶矽生產企業。早期有高壓清洗、化學溶劑低（dī）壓清洗、機械拋光（guāng）等，但大（dà）多釆用堿液中壓清洗（xǐ），這些清洗方（fāng）式不僅不能將鍾罩清洗幹淨，還會損傷表麵鍍銀的還原爐鍾罩，為攻克這一難題（tí），一款全新的用於電子級的多晶矽還原爐鍾罩清洗係統應運而生。

電子級（jí）多（duō）晶矽還原爐鍾（zhōng）罩自動清洗係統特（tè）點：

1、多（duō）晶矽還原爐鍾（zhōng）罩清洗係統以水為動力，以水力（lì）自驅動三維洗罐器為噴頭，形成360° 3D形式的網（wǎng）狀（zhuàng）噴射來完成爐筒內部表麵的水力掃射。

2、采用可以旋（xuán）轉（zhuǎn）和升降的清洗吹幹執行機構，根據（jù）還原爐每個視孔（kǒng）鏡相對原（yuán）點的相對位（wèi）置進行準確定位。可自（zì）動切換不同清洗液及吹幹，通（tōng）過控（kòng）製（zhì）係（xì）統可（kě）對清洗、吹幹（gàn）時間等進行調整。清（qīng）洗時隻需一鍵操作即可（kě），操（cāo）作簡單（dān）方便。

3、根據（jù）還原（yuán）爐底（dǐ）部法蘭的結構特設（shè）計升級後的清洗工作台，不僅可以滿足對內（nèi）壁和視孔鏡的清洗，同時也滿（mǎn）足了底部法蘭的清洗（xǐ）。可實現（xiàn）對法蘭內邊緣的清洗，保證（zhèng）整個法蘭底部都被清洗液覆蓋，並（bìng）清洗（xǐ）、吹幹。

4、在整個還原爐的清洗過程中（zhōng），清（qīng）洗、幹燥中筒內形成微負壓（yā）狀態（tài），防止清洗（xǐ）外溢，同時將底（dǐ）座與筒體下法蘭處的汙染物等一並吹掃（sǎo），通過排汙管排出，從而保證了整個過程不會（huì）對潔淨區造成（chéng）汙（wū）染。
 
經過（guò）實際應用，多晶矽還原爐（lú）清洗（xǐ）係統整套係統可實現全自動化清洗操作，在一個工作平台上，一（yī）次吊裝可依次實現自動清洗烘幹全部功（gōng）能，完全實現無死角清洗，同時具有（yǒu）完善的聯鎖和保護功能（néng）。